فناوری EVU در تولید تراشه، اینتل را به برنامه دو ساله قانون مور باز می‌گرداند

اینتل به عنوان یکی از بزرگ‌ترین تولیدکنندگان تراشه‌های پردازشی، در سال‌های اخیر با مشکلاتی دست به گریبان بوده و همین امر باعث شده تا عرضه‌ی نسل جدید تراشه‌های این کمپانی مبتنی بر لیتوگرافی کمتری با تاخیر نیم ساله همراه شود.

موبنا- اینتل یکی از پیشروترین کمپانی‌ها در زمینه‌ی تولید تراشه‌های رایانه‌ای است، اما پیش آمدن مشکلات در سال‌های اخیر باعث شده تا روند بروزرسانی محصولات این کمپانی در سال‌های اخیر با تاخیر روبرو شود. همانطور که می‌دانید، بنابر قانون مور، تعداد ترانزیستورهای مورد استفاده در پردازنده‌ها هر دوسال یکبار بیش از دو برابر می‌شود، حال آنکه محدودیت‌های فیزیکی موجود پیش روی سیلیکون، باعث شده تا اینتل در بروزرسانی‌ تراشه‌های خود با تاخیر عمل کرده و نتواند در بازه‌ی زمانی دو ساله مورد اشاره، تراشه‌های نسل جدید خود را با لیتوگرافی جدید تولید و روانه‌ی بازار کند.

مشکلات موجود باعث شده تا اینتل به جای بروزرسانی تراشه‌های خود در بازه‌ی دو ساله، محصولات جدیدش را در فاصله‌ی دو نیم ساله روانه‌ی بازار کند. این موضوع درباره‌ی تراشه‌های دو نسل آخر اینتل که مبتنی بر لیتوگرافی ۱۴ نانومتری روانه‌ی بازار شده‌اند، صادق بوده و انتظار می‌رود تراشه‌های مبتنی بر لیتوگرافی ۱۰ نانومتری نیز از چنین فاصله‌ی زمانی پیش از عرضه برخوردار باشند.

اما با وجود مشکلات ایجاد شده، اینتل امیدوار است تا در تراشه‌های مبتنی بر لیتوگرافی ۷ نانومتری به تاخیر‌های ایجاد شده پایان داده و بتواند فاصله‌ی دو ساله‌‌ی اشاره شده در قانون مور را رعایت کند.

استیسی اسمیت، مدیر ارشد مالی اینتل در جریان سخنرانی خود در کنفرانس رسانه، ارتباطات و فناوری مورگان استنلی، چنین اظهار نظر کرده است:

ما دوست داریم تا بازه‌ی دو ساله‌ را برای عرضه‌ی تراشه‌های خود رعایت کنیم، اما فرآیند بروزرسانی و انتقال به فناوری جدید تاکنون ممکن نبوده است. ما تراشه‌های مبتنی بر لیتوگرافی ۷ نانومتری را به عنوان نسلی که می‌توانیم دوباره به بازه‌‌ی بروزرسانی دو ساله برگردیم، در نظر داریم، چراکه احتمالا فناوری‌های توسعه یافته تا آن زمان، امکان بازگشت به بازه‌ی زمانی دو ساله را فراهم خواهند کرد.

در جریان تولید تراشه‌های مبتنی بر لیتوگرافی ۱۴ نانومتری که شامل دو نسل برادول و اسکای‌لیک است، وجود مشکلات فنی باعث شد تا اینتل نتواند براساس زمانبندی موجود پیش رفته و محصولات خود را با تاخیر روانه‌ی بازار کند. انتظار می‌رود در پایان سال جاری میلادی شاهد رونمایی و عرضه‌ی تراشه‌های موسوم به کیبی لیک (Kaby Lake) باشیم. تاخیر‌های ایجاد شده و ایجاد وقفه‌ی ۲.۵ ساله باعث شده فروش عمده‌ی این تراشه‌ها نیز با چالش‌هایی همراه شود.

براساس نقشه‌‌ی راه تعیین شده توسط اینتل، این کمپانی تراشه‌های مبتنی بر لیتوگرافی ۱۰ نانومتر خود را که کانن لیک (Cannon Lake) نام دارد، در نیمه‌ی دوم سال ۲۰۱۷ میلادی روانه‌ی بازار خواهد کرد. بازگشت به بازه‌ی زمانی پیشنهاد داده شده در قانون مور به دلیل پیشرفت‌های صورت گرفته در فناوری Extreme Ultraviolet Lithography است که به اختصار EUV نیز خوانده می‌شود این فناوری لیتوگرافی مبتنی بر اشعه‌ی ماورا بفش خوانده می‌شود.

گمانه‌زنی‌ها حکایت از این دارد که این فناوری در زمینه‌‌ی تولید تراشه‌های مبتنی بر لیتوگرافی ۷ نانومتری مورد استفاده قرار خواهند گرفت. در این فناوری از اشعه‌های ماورا بنفش برای انتقال الگوی مدار روی ویفرهای سیلیکونی استفاده می‌شود. این روش به این دلیل مورد استفاده قرار نمی‌گیرد که هنوز ابزار‌های سخت‌افزاری لازم وجود خارجی ندارند.

براساس اطلاعات ارائه شده توسط اسمیت، کاهش لیتوگرافی در تراشه‌های تولید شده، امکان بروز خطا را بیش از پیش افزایش می‌دهد. در حال حاضر اینتل از روش‌هایی نظیر لیتوگرافی چند الگویی برای جلوگیری از بروز خطا استفاده می‌کند که یکی از موانع کاهش لیتوگرافی تراشه‌ها است.

اسمیت به این موضوع اشاره کرده که شاید فناوری EUV پیش از زمان عرضه‌ی تراشه‌های ۷ نانومتری اینتل در دسترس بوده و بتوان از آن برای تولید تراشه‌های ۱۰ نانومتری نیز استفاده کرد، اما اینتل برای استفاده از این فناوری در تراشه‌های ۷ نانومتری خود برنامه‌ریزی کرده است.

اینتل پیشتازی در زمینه‌ی تولید تراشه‌ها را در فرآیند انتقال به لیتوگرافی ۱۴ نانومتری به کمپانی‌های سامسونگ و TSMC تایوان واگذار کرد، اما انتظار می‌رود در لیتوگرافی ۱۰ نانومتری شاهد بازگشت اینتل و پیشرو بودن این کمپانی همچون گذشته باشیم.

پیروی از قانون مور برای اینتل هزینه‌‌ی بالایی را در پی دارد، بطوریکه برآوردهای انجام شده توسط اینتل نشان از این دارند که این کمپانی برای همپا شدن با قانون مور در ۱۰ سال آینده، نیاز به بودجه‌ای ۲۷۰ میلیارد دلاری در زمینه‌ی تحقیقات و توسعه دارد. این رقم بسیار بیشتر از ۱۰۴ میلیارد دلاری است که اینتل در سال ۲۰۱۱ برای هزینه کردن در یک دهه‌ی پیش رو محاسبه کرده بود. گمانه‌ی جدید با در نظر گرفتن هزینه‌ی ویفرها، نیروی کار و فناوری‌های جدیدی نظیر EUV است.

در کنار فناوری‌هایی نظیر EUV، راهکارهای دیگری نیز به اینتل کمک خواهند کرد تا تراشه‌های سریع‌تر و بهره‌وری را تولید کنند. برای مثال می‌توان به جایگزین کردن گالیوم نیترید با سیلیکون در تراشه‌ها اشاره کرد.

منبع:زومیت|نویسنده:حسین خلیلی صفا

پاسخ دهید

نشانی ایمیل شما منتشر نخواهد شد. بخش‌های موردنیاز علامت‌گذاری شده‌اند *

2 × 3 =

دنبال کنید @ اینستاگرام